III-V族希薄磁性半導体の磁性と電気伝導

分子線エピタキシー法により III-V 族半導体に Mnを高濃度ドープした (In,Mn)As あるいは (Ga,Mn)Asの作成が可能になっており,これらの試料の電気伝導(磁気抵抗・ホール抵抗)や磁化を中心に 測定・解析を行っている。

最近の報告[1]では (Ga,Mn)Asで転移温度 60Kの強磁性が観測された (FIG.1)

また Mn 濃度が 5×10^20cm-3 付近で金属−絶縁体転移が起こり,金属−絶縁体近傍の試料で巨大な負の磁気抵抗が観測されている [2]

FIG. 1 (Ga,Mn)As/GaAs(Mn濃度3.5%)の磁化曲線(5K)

FIG. 2 (Ga,Mn)As/GaAs(Mn濃度7.1%)の磁気抵抗

[1]H. Ohno, A. Shen, F. Matsukura, A. Oiwa, A. Endo, S. Katsumoto and Y. Iye, Appl. Phys. Lett. 69, (1996) 363.

[2]A. Oiwa, S. Katsumoto, A. Endo, M. Hirasawa, Y. Iye, H. Ohno, F. Matsukura, A. Shen and Y. Sugawara, Solid State Communications (投稿中).


Last updated on Jun. 14, 1997

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